PI 膜石墨化爐是我廠(chǎng)工程技術(shù)人員消化和吸收國外***的測溫、控溫技術(shù)、智能化、新材料技術(shù)和爐膛設計技術(shù)，推出的一項特別碳素材料行業(yè)（工藝允許也可適用于其他行業(yè)）的高性能智能化電爐。

●用途：    

應用碳素材料的燒結，PI 膜石墨化，導熱材料石墨化、碳纖維繩的燒結，碳纖維燈絲的燒結石墨化及其它可在碳環(huán)境下燒結和熔煉的材料。

●特點(diǎn)：
3000℃以?xún)瘸邷貭t體，可完全滿(mǎn)足各種材料的燒結和石墨化。
采用數顯化智能控溫系統，全自動(dòng)高精度完成測溫控溫過(guò)程，系統可按給定升溫曲線(xiàn)升溫，并可貯存二十條共400段不同的工藝加熱曲線(xiàn)。
采用內循環(huán)純水冷卻系統；數字式流量監控系統，爐體轉換采用高性能中頻接觸器；全面的PLC水、電、氣自動(dòng)控制和保護系統。

●主要技術(shù)參數：
**使用溫度：3000℃
高溫區容積：0.01m3、0.02m3、0.03m3、0.05m3、 0.1m3、 0.15m3、0.2m3 、0.3m3 、0.5m3、0.8m3
爐內工作氣氛：真空、氫氣、氮氣、惰性氣體等
溫度均勻度：≤±10℃
溫度測量：遠紅外線(xiàn)光學(xué)測溫
測溫范圍1000~3000℃或600~3100℃
測溫精度：0.2~0.75%
溫度控制：程序控制和手動(dòng)控制； 控溫精度：±1℃
極限升溫速度：50℃/分鐘（空爐，視高溫區容積和爐膛結構而定.